스핀코터(spin coater) 스핀에처 (spin etcher) &
스핀디벨로퍼(Spin Developer)
Diamond SAW / 시편절단기
폴리셔 (Polisher/
Polishing Machine)
Diamond Wire Saw
(다이아몬드 와이어 커터)
4 포인트 프로브(4 point probe :
표면저항측정기)
웨이퍼 현상장비/ 현상기/
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반도체 및 pcb용 노광기 반도체-PCB 중고장비
양극 접합 장치 PR 스프레이코터 프로브스테이션
와이어본딩 테스터기 마이크로 컨택 프린터 UV 필름 경화 장비
진공탈포기 SEMICONDUCTOR-LCD
RD-PILOT-IN LINE LIST

칩 얼라이너
나노 미세 가공기 소형 정밀 프레스 vacuum Pump(버큠펌프)

 
 

1.장치의 개요
본장치는 , 하버드 대학의 것G.Whitesides에 의해 제창된 「마이크로 컨택트 프린팅(micro contact printing)」법으로 대응하는 마이크로 컨택트 프린터 장치입니다. 마이크로 컨택트 프린팅법은 급속히 전개해 온 유기 엘렉트로닉스 분야에서 차세대 디바이스 제조법으로서 주목을 끌고 있습니다.
PDMS(폴리 디메틸 실록산) 스탬프를 설치해 시료상에 셀프 어셈블(assemble)막을 전사 할 수가 있습니다. 그리고 일반적인 컨택트 방식 마스크아라이나라고 해도 사용 하실 수 있기 때문에 , 스탬프 마스터의 제작등도 가능합니다. 각 기구 조작부를 수동으로 한 심플한 구성으로 , 다방면에서의 응용이 듣는 Low cost로 사용하기 편리한 장치입니다.

2.사양

◆프린트 형식 W 스테이션 방식
1. 아라이먼트/컨택트 스테이션(앞측:수동)
2. 스탬프대(잉크 보충) 스테이션(오측:수동)
3. 스탬프 이동부 앞측←→오측에 전후 슬라이드(수동)

◆아라이먼트 기구 개요
Z축 미동 나사 및 에어 실린더 컨택트 방식
가동축 XYZθφ(평행) 축 옵션에서 미트트요제 Z축 높이측장기 분해가능 1μm

◆스탬프대 기구 개요
Z축 미동 나사 및 에어 실린더 컨택트 방식
가동축 Zφ(평행) 축 옵션에서 미트트요제 Z축 높이측장기 분해가능 1μm
※스탬프-시료의 강제 박리에 대응

◆적응 시료(앞 아래 쪽)
사이즈 최대 □4인치 두께 최대 t=500μm정도
※1주의 노광 에리어는 자외선 조사지름·홀더 개구부 치수에 의해 제한됩니다.

◆적응 스탬프(위쪽:마스크아라이나시는 적응 마스크)
사이즈 최대 □4인치 두께 0.06인치 또는0.09인치 ※1

◆적응 스탬프대(후방 아래 쪽)
사이즈 최대 □4인치 두께 최대 t=500μm정도 ※1

※1 시료 탑재면 또는 스탬프대 홀더와 스탬프(마스크) 설치면과의 거리는5.5mm입니다.
시료 또는 스탬프대와 스탬프(마스크) 의 두께 합계가 최대로5mm정도이면 사용 가능합니다.

◆노광 방식 1:1등 배 노광 컨택트(컨택트압 조정가능) 및 프로키시미티

◆노광 성능 및 램프 하우스
광학 형식 콜리메이터 렌즈 방식 우시오전기제 250W Hg램프 USH-250D
유효 노광 면적 약φ80mm 조도 균일도 ±15%이내 UV 조사 강도 약13mW/c㎡ (at 405nm)

◆아라이먼트 방식
쌍 대물CCD&모니터 관찰 현미경에 의한 목시 아라이먼트
종합 배율 9인치시 약100배(모니터 사이즈에 의한다 )
광학 렌즈 배율 4배 시야 범위 횡 약1.6(2분할시0.8) × 세로 약1.2mm
※2CCD의 영상을1모니터에 비추기 (위해)때문에 옆의 시야는 반이 됩니다.
관찰 조명 고휘도 적색LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
대물렌즈간 거리 20~80mm X축(옆) 방향

◆치수/중량
670(H)×460(W)×540(D)mm이내 / 300Kg 이하
램프 하우스 , 현미경의 스윙시는 본발자국으로부터 오버합니다.
제어 박스 , 램프 하우스 전원은 별도입니다.

◆유틸리티
진공 600mmHg이상
질소 또는 드라이 에어 5Kg/c㎡이상
전원 AC100V 8A (최대)


 

  1.장치의 개요
본장치는 , 하버드 대학의 것G.Whitesides에 의해 제창된 「마이크로 컨택트 프린팅(micro contact printing)」법으로 대응하는 마이크로 컨택트 프린터 장치입니다. 마이크로 컨택트 프린팅법은 급속히 전개해 온 유기 엘렉트로닉스 분야나 바이오용 마이크로 구조체 등 차세대 디바이스 제조법으로서 주목을 끌고 있습니다.
PDMS(폴리 디메틸 실록산) 스탬프를 설치해 시료상에 셀프 어셈블(assemble)막을 전사 할 수 있습니다. 한층 더DeepUV광원 컨택트 방식 마스크아라이나라고 해도 사용 하실 수 있기 때문에 , 스탬프 마스터의 제작등도 가능합니다. 각 기구 조작부를 수동으로 한 심플한 구성으로 , 다방면에서의 응용이 듣는 Low cost로 사용하기 편리한 장치입니다.

2.사양

◆프린트 형식 W 스테이션 방식
1. 아라이먼트/컨택트 스테이션(앞측:수동)
2. 스탬프대(잉크 보충) 스테이션(오측:수동)
3. 스탬프 이동부 앞측←→오측에 전후 슬라이드(수동)

◆아라이먼트 기구 개요
Z축 미동 나사 및 에어 실린더 컨택트 방식
가동축 XYZθφ(평행) 축 옵션에서 미트트요제 Z축 높이측장기 분해가능 1μm

◆스탬프대 기구 개요
Z축 미동 나사 및 에어 실린더 컨택트 방식
가동축 Zφ(평행) 축 옵션에서 미트트요제 Z축 높이측장기 분해가능 1μm
※스탬프-시료의 강제 박리에 대응

◆적응 시료(앞 아래 쪽)
사이즈 최대 □4인치 두께 최대 t=500μm정도
※1주의 노광 에리어는 자외선 조사지름·홀더 개구부 치수에 의해 제한됩니다.

◆적응 스탬프(위쪽:마스크아라이나시는 적응 마스크)
사이즈 최대 □4인치 두께 0.06인치 또는0.09인치 ※1

◆적응 스탬프대(후방 아래 쪽)
사이즈 최대 □4인치 두께 최대 t=500μm정도 ※1

※1 시료 탑재면 또는 스탬프대 홀더와 스탬프(마스크) 설치면과의 거리는5.5mm입니다.
시료 또는 스탬프대와 스탬프(마스크) 의 두께 합계가 최대로5mm정도이면 사용 가능합니다.

◆노광 방식 1:1등 배 노광 컨택트(컨택트압 조정가능) 및 프로키시미티

◆노광 성능 및 램프 하우스
인티그레이터 렌즈 방식 200W Hg-Xe램프 약□30mm 균일도±5% DeepUV대응 λ=254~500nm
파장 선택 필터 내장 가능. 노광 에리어 사이즈는 램프 하우스의 선택에 의해 변경 가능합니다.

◆아라이먼트 방식
쌍 대물CCD&모니터 관찰 현미경에 의한 목시 아라이먼트
종합 배율 9인치시 약100배(모니터 사이즈에 의한다 )
광학 렌즈 배율 4배 시야 범위 횡 약1.6(2분할시0.8) × 세로 약1.2mm
※2CCD의 영상을1모니터에 비추기 (위해)때문에 옆의 시야는 반이 됩니다.
관찰 조명 고휘도 적색LED에 의한 같은 축락 쏘아 맞히고 식 조명
대물렌즈간 거리 20~80mm X축(옆) 방향

◆치수/중량
670(H)×460(W)×540(D)mm이내 / 300Kg 이하
램프 하우스 , 현미경의 스윙시는 본발자국으로부터 오버합니다.
제어 박스 , 램프 하우스 전원은 별도입니다.

◆유틸리티
진공 600mmHg이상
질소 또는 드라이 에어 5Kg/c㎡이상
전원 AC100V 8A (최대)


 

  1.장치의 개요
본장치는mCP(micro contact printing)법으로 대응하는 마이크로 컨택트 프린터 장치입니다.
mCP법은 급속히 전개해 온 유기 엘렉트로닉스 분야나 바이오용 마이크로 구조체 등 차세대 디바이스 제조법으로서
주목을 끌고 있습니다. PDMS(폴리 디메틸 실록산) 스탬프를 설치해 시료상에 셀프 어셈블(assemble)막등을
전사 할 수 있습니다.
잉크 보충 및 프린트 스테이션은 Z축 서보 컨트롤로 컨택트 스피드 , 압력 , 거리 , 시간을
프로그램 제어 가능합니다. 게다가 2기의 아라이먼트스테이지와 슬라이드식 현미경으로 잉크 보충시의 아라이먼트도
가능하게 되었습니다. 신형UV광원 탑재로 고정밀도 마스크아라이나라고 해도 사용 하실 수 있기 때문에 각종 실험·생산에
유연에 대응합니다.

2.사양

주된 사양
◆프린트 형식 W 스테이션 방식(프린트/노광&스탬프대 스테이션)
◆아라이먼트 기구 개요 2기 독립 XYZθφ(평행) 축 Z축 이동 스피드·압력·높음·시간 프로그램 제어 방식 분해가능0.1μm
◆적응 시료(앞 아래 쪽) 사이즈 최대 □4인치
◆적응 스탬프 (마스크아라이나시는 적응 마스크) 사이즈 최대 □5인치 두께 0.06~0.09인치
◆적응 스탬프대 사이즈 최대 □4인치
◆노광 방식 1:1등 배 노광 컨택트(컨택트압 조정가능) 및 프로키시미티
◆노광 성능 소 후라이아이렌즈 방식 250W 노광 에리어φ50~100mm 균일도±10% 25~45mW/c㎡ at 365nm 
◆아라이먼트 방식 쌍 대물CCD&모니터 관찰 현미경에 의한 목시 아라이먼트
◆치수/중량 800(H)×900(W)×600(D)mm이내 200Kg이하  제어 박스 , 램프 하우스 전원은 별도입니다.
◆유틸리티 진공 600mmHg이상 질소 또는 드라이 에어 5Kg/c㎡이상 전원 AC100V 10A (최대)


 

 

·본장치는 , 현미경과 화상 처리에 의한 비접촉으로 미소 측정 기능을 가진 전자동 측정 시스템입니다. 오트포카스 화상 처리로 높이를 검출하는 일에 의해 , 시료의 단차 측정에는 최적입니다.

【용도】
◆높이·단차 측정 PDMS(폴리 디메틸 실록산) 마이크로 컨택트 프린트용 스탬프·흔적용형의 단차
LCD·IC막의 높이 , 반전 크림의 높이 , 스크린 인쇄의 높이 ,PDP여성해방운동 높이 , 범프의 높이 등 미소 가공물의 단차
◆이차원 측정 선건 , 엔 직경 , 반경 , 각도 , 면적 , 중심 , 중심 , 피치 측정등

【주된 사양】
◆형식 비접촉 광학 측정 및 화상 처리 장치
◆대응 시료 사이즈 50mm각
◆측정 정밀도 높이 측정;0.3μm 선건 측정 0.2μm(측정 시료의 종류 , 측정 환경에 의해 변화하는 )

◆유틸리티 전원 AC100V
◆외형 치수·중량 1300×1710×900 mm (H×W×D) 150Kg 이하
※사양은 개량을 위해 예고 없이 변경하는 일이 있습니다.